中科院:上海光機所計算光刻技術研究取得進展

6月10日,中國科學院官網刊文稱,中國科學院上海光學精密機械研究所(簡稱「上海光機」)信息光學與光電技術實驗室在計算光刻技術研究方面取得重要進展,提出了一種基於虛擬邊與雙採樣率像素化掩模圖形的快速光學鄰近效應修正技術(OPC),可有效提高光刻解析度、增大工藝窗口。此類技術被認為是推動集成電路晶元按照摩爾定律繼續發展的新動力。

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